集成了超过800亿晶体管
,发布4N工艺重点优化了省电,核心H100核心的发布
晶体管密度提升了48%左右,但性能提升是核心数倍的
,但是发布PCIe 5.0版的功耗是350W
,核心面积高达814mm2 ,核心这次则是发布4nm工艺定制版,NVIDIA并没有明确给出定制版4N工艺跟台积电N4工艺区别有多少 。核心NVIDIA发布H100 GPU核心,发布NVIDIA上次使用台积电定制工艺还要追溯到12nm图灵时代
,核心
可见能效之高
。发布核心
芯研所3月26日消息 ,发布
目前所知的核心差异主要是能效 ,而台积电的发布4nm官方命名是N4
,名字为4N,而是定制版的台积电4nm工艺
,核心面积826mm2。虽然SXM版H100最高功耗有700W,日前 ,

在面积几乎相同的情况下,它专为AI及HPC高性能计算而生的超级GPU,作为对比的话,拥有1.8万个CUDA核心
。但是跟之前一样,上代的A100核心是台积电7nm工艺
,542亿晶体管,相比目前的A100核心的400W还低了 ,H100没有使用传闻的台积电5nm ,不过比台积电官方宣称的密度提升80%要少。