有望提前导入未来制程节点。消息芯片还特别有助于移动端 SoC 的称星测试小型化
。

▲ 台积电未来技术路线图
。背面
最早在明年推出的供电 2nm 中应用 。在芯片面积上分别减小了 10% 和 19% ,结果三星电子近日在背面供电网络(BSPDN)芯片测试中获得了好于预期的良好成果
, 2 月 29 日消息
,有望减少供电对信号的提前干扰,同时还获得了不超过 10% 的导入
性能、

▲ BSPDN 背面供电网络示意图 。消息芯片
Chosunbiz 称,称星测试可简化供电路径 ,背面先制造晶体管再建立用于互连和供电的供电线路层 。对设计与制造形成干扰。结果据韩媒 Chosunbiz 报道,良好台积电预计将在 2025 年推出标准 N2 节点后 6 个月左右发布对应的背面供电版本
。图源科技博客 More Than Moore
三星电子的两大竞争对手台积电和英特尔也积极布局背面供电领域
:其中英特尔将于今年的 20A 节点开始推出其 BSPDN 实现 PowerVia;而根据科技博客 More Than Moore 消息,
BSPDN 技术将芯片供电网络转移至晶圆背面,最终可降低平台整体电压与功耗。但随着制程工艺的收缩
,三星此前考虑在 2027 年左右的 1.7nm(IT之家注 :此处存疑
,以往报道中为 1.4nm)工艺中实现背面供电技术的商业化,频率效率提升。对于三星而言,解决互连瓶颈,
传统芯片采用自下而上的制造方式,预计将修改路线图,但由于目前超额完成了开发目标 ,三星电子在测试晶圆上对两种不同的 ARM 内核设计进行了测试,图源 imec
参考韩媒报道,传统供电模式的线路层越来越混乱,